光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶是光刻工艺的核心材料，主要由树脂、感光剂、溶剂、添加剂等组成，其中树脂和感光剂是最核心的部分。

根据应用领域不同，光刻胶可分为半导体光刻胶、LCD光刻胶和PCB光刻胶。其中在LCD显示领域，用于制作彩色滤光片的光刻胶主要包括黑色光刻胶、彩色光刻胶（R,G,B）和透明光刻胶。

一、彩色滤光片工艺

彩色滤光片（Color Filter，CF）是LCD显示器彩色化的关键组件，其作用是实现LCD面板的彩色显示。彩色滤光片的制作方法有染色法、染料分散法、电着法、印刷法、喷墨法等多种，其中颜料分散法由于在颜色特性、质量、可公度性等方面均占有优势， 因此成为目前制作彩色滤光片的主流方式。

颜料分散法是一种将颜料均匀分散在适当的介质中，形成均匀的颜料悬浮液，然后将悬浮液涂布在基底材料上的工艺。主要工艺流程包含涂布、预烤、曝光、显影、后烤等。

二、彩色光刻胶组分

光刻胶主要由溶剂、树脂、感光剂、添加剂等成分组成，其中溶剂占比约50%~90%，树脂占比约10%~40%，感光剂占比约1%~6%，添加剂占比约<1%。而彩色光刻胶主要是在此基础上增加了颜料（5%~10%）及分散剂（5%~10%），颜料主要用于光刻胶的着色，分散剂主要用于将颜料均匀的分散开。

由于彩色光刻胶含有颜料，和不含颜料的光刻胶体系相比，技术要求更高，要求具有有效的颜料分散稳定技术，同时由于颜料具有遮光性，需要具有高感度光刻树脂体系，高感度光引发剂和树脂的性能对彩色光刻胶起着决定性作用。

三、彩色光刻胶制备

彩色光刻胶生产的工艺流程包括原材料配制、混合、分散、过滤、装桶等步骤。首先按照配方准备原材料，然后将原材料加入反应釜中进行混合搅拌，直至搅拌均匀，再通过滤芯将光刻胶中的大颗粒过滤掉，最后装桶打包存储。

四、彩色光刻胶发展

由于终端应用产品不断追求更轻、更薄、高画质显示，与此相适应，LCD 面板逐步向高亮度、高对比度、高色彩饱和度、高分辨率等方向发展。配合 LCD 面板的需求，彩色光刻胶的开发需向高透过率、高色彩饱和度、高分辨率等方向发展。

1. 配合LCD面板的高亮度需求，需开发具有高透过率的彩色光刻胶。

2. 高色彩饱和度需要配合开发高色彩饱和度（NTSC）的彩色光刻胶。

3. 高分辨率需要彩色光刻胶具备可制作更细线条的能力。