定义：镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是不良还是脏污，才能找出真因。

前言：光学玻璃的结构:以硅酸盐为主（SiO3）加上Mg(镁)Ba（钡）K（钾）La（钄）Pb（铅）等几十种离子混合而成。而Mg(镁)Ba（钡）K（钾）La（钄）Pb（铅）等是活性金属离子，它们是用来调节镜片的折射率（nd）、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化（形成硅酸溶胶）。

不良定义：不良即腐蚀、发霉，指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层，从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。不良大致可以分为膜上不良和膜下不良。下列为常见的几种现象：

水纹印、治具印、擦拭印、霉点印、色差印

雾状、蓝点或绿点、白印、手指印

几种相关名词：

1、镀前不良（镜片表面本身污染/表面腐蚀/水分残留/溶剂残留，镀前已可见）：

---镜片在研磨过程中研磨液（研磨液通常PH值6.5-7.5但在加工过程会发生变化，由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应，造成PH值变化）对镜片的腐蚀，镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹；

---镀前透过光检查为白色雾状；

---研磨完品未及时进行清洗（或擦拭），研磨残留（研磨液或水）对镜片的腐蚀；

---清洗后镜片暴露空气接触水分等太长，镜片受腐蚀；

---洗净烘干时水分残留；

---擦拭时后的溶剂残留；

2、镀膜色差：（非不良，镀前不可见）

---因镜片放置在镀膜伞的不同位置，基底温度不均匀；造成镀膜伞上、中、下膜色差异；

---镀膜蒸发源偏离原有设定位置，造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀；

---镀膜使用离子源时，离子覆盖的范围没有调整合适，离子流密度不均匀造成；

3、膜层脏污：（非不良，镀前不可见）

---膜下脏，指镀前未处理干净，镀膜后形成明显的膜色差异，透过光可见。

---膜上脏，包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污；镀膜真空室长期未清洁（洁净度差），膜层致密度低，灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭；镀膜后膜层污染，经高温环境后形成膜层脏污；

---因镜片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，镀膜前擦拭可感觉有涩感；镀膜后擦拭表面形成雾状，经超声波洗净后OK；

4、膜下不良：

---白不良：镀后在透过光下能见白色雾状层，为镀前产生；镜片表面残留物（研磨保护漆）在真空室经高温烘烤分解，在表面形成白雾层，可用溶剂擦拭去除；镀前不可见；

---镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后，与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀；镀前不可见；---色不良：研磨后不明显，镀膜放置后加重；镀前不可见

---色斑：研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底，涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕；

5、膜色不良：

---由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差，镀后吸收水份与O2离子，擦拭无明显变化，烘烤或放置一段时间后会变严重或消失；可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现。

---膜层结晶时高温下受损（某一层膜厚太薄≤160A），膜料与基底发生反应，高温下再结晶时不均匀，形成局部分光特性变化；

---研磨在表面形成不同的折射率区域；

---镀膜真空室内油污严重，存在大量各类杂质气体，加热后吸附在镜片表面，造成膜层结晶粗糙，膜层在大气中吸附各类气体水分，形成局部分光特性变化，可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现；

---已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净，又放入高温环境下烘烤；

6、雾状：（非不良）

---表面粗糙、半透明，主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀；

---镜片长期被酸碱强烈腐蚀;

7、黑不良

---镀膜膜料金属氧化物与O2造成（与O2反应不充分，特别是在使用离子源的时候），镜片置于白色背景可见底色；置于富氧环境中高温烘烤后，黑色斑点消失；

---多片研磨使用粘贴胶，没有彻底去除，

---研磨液没有及时去除，镜片表面长期没有得到良好保护，点状腐蚀严重；

8、细伤痕：（非不良）

---研磨完品表面细（浅）、长、密的伤痕，主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸（粉）选择与配比不恰当，超洗加重潜伤等；

---镜片表面研磨加工时由于研磨液（浓度、PH值、颗粒、温度）等影响，镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面，但超声波洗净后使潜在伤痕显现，同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀；

9、水纹印不良

---洗净烘干时IPA纯度下降，（或其他烘干剂烘干效果不好）水份未及时蒸干；

---洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底，表面残留较多；

---镜片表面水分与残留雾在真空室内，经高温解析后形成H＋＋/OH-，在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀。

不良关联图：

通常处理思路：

一.目前所有对策都是加快流程，杜绝人为造成镜片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；
降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间；提高膜层致密度；

1、镀前不良：

---检查方法：

---反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印；

---强光灯下确认有无脏污/白不良；

---日光灯反光确认镜片有无黑不良；

2、镀膜色差不良

---对策/处理：

---镀膜均匀度调整（镀膜专业人员）

2.1.膜色不良

---对策:

---砂挂条件变更（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）-确保砂挂完品表面粗糙度）；

---研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液（PH、浓度、颗粒度）、温度、压力条件等-确保研磨完品表面粗糙度）；

---研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）；

---镀前处理：使用手工表面返修（单轴机手工返修）

---试验/验证：

---通过反射光下“哈汽法”，镀前检查确认表面光洁度；

---使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹；

---通过镀前处理（手工返修）后镀制来验证研磨完品表面质量；

3、膜层脏污：

A、膜上脏污：

---对策/处理：

---膜系调整（如加镀SiO2，膜表面品质提升）；

---镀后延长烘烤时间，与镀膜使用离子源辅助镀膜（表面致密度提升）；

---镀后防尘措施（改善存放环境，降低泄大气前镜片温度，保持真空室内洁净度）；

---防止镀膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染，造成表面脏污；

---擦拭变化，可擦拭与超声波清洗去除；

B、膜下脏污：

---对策/处理：----镀前处理

---洗净处理（确认洗剂浓度与PH值，提高超声波强度，延长洗净时间，特殊洗净工艺）；

---研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）；

---研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除；

---手工返修处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；

---试验/验证：

---镀前反射光下“哈汽法”确认，

---镀后不可擦拭

4、膜下不良：

---对策/处理：

----镀前处理

---研磨条件变更（考虑材质对研磨液等调整）

---考虑材质调整研磨工艺：

---采取研磨后直接镀膜工艺：芯取、研磨、手工擦拭、检查、镀膜；

---采取易不良面后加工工艺（避免多片加工、采取单元一个流作业等）；

---缩短研磨后到镀膜的时间（检查前置、免洗净）；

---研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后达可镀清洁度），二次清擦法，及时更换擦布；

---已擦拭好研磨完品防潮、防湿（研磨后立即泡IPA，卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等）；

---先镀易不良面

---洗净处理（考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整，如洗净液、镜片放置方向等）

---手工处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）

---试验/验证：

---通过手工处理确认镀后品质

---镀前强光灯下可见、哈气法检查

5、膜色不良：

---对策/处理：

---镀膜工艺改进（膜层致密度提高（蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度）；

---使用高能离子去除表面残留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100镀膜；

---镀前、镀后烘烤时间加长

---镀后完品防尘、防湿

---试验/验证：

---一般擦拭不变化（研磨粉、CaCO3擦拭变化，膜层破坏）

---放置变化（变重/消失）

6、雾状：

---对策/处理：

---砂挂加工条件改善（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）确保砂挂完品表面粗糙度；

---研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等）确保研磨完品表面粗糙度；

---研磨完后追加黑毛纸抛光；

---洗净条件改善（洗剂、时间、温度等）；

---镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压（160V～120V）调整，与离子电流密度增加，离子源反应气体流量适当增加；

---膜层致密度提高；

---试验/验证：

---对不同粗糙度的砂挂完品试验，确认砂挂外观对研磨完品的影响程度

---通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度

7、黑膜不良

---反射光检查

---对策

---镀膜时O2的增加

---研磨液残留及时去除，表面脏污及时清理

8、细伤痕

---同雾状

9、水纹不良

---更换烘干剂